Runway

Runway 是由美国Runway ML团队开发的AI生成艺术平台，2018年上线，2025年升级为多模态创作工具。专注于AI驱动的创意生产，支持图像、视频、3D模型生成与实时编辑，用户包括艺术家、设计师、开发者等群体。平台基于Transformer架构，结合扩散模型与强化学习，提供从原型设计到成品输出的全链路工具链。